[发明专利]一种薄膜沉积设备及方法

摘要

公开了一种薄膜沉积设备，包括腔室以及位于腔室内部的多个工艺站，每个工艺站包括：基座，用于承载待加工元件；以及与基座相对设置的气体喷头，用于向待加工元件表面提供反应气体；其中，每个气体喷头对应连接一个进气管，且每个进气管上设置加热装置，用于向气体喷头导入相同或不同温度的反应气体。本发明实施例在每个进气管上均设置加热装置，以对每个进气管的进气温度进行单独调节，进而每个喷头的进气流量进行单独单独调节，以匹配每个基座上待加工元件的不同成膜厚度。