[发明专利]一种AlGaInN发光二极管的接触结构在审

专利信息
申请号: 202111158607.9 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN113921677A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 吴小明;莫春兰;陈芳;王立;李新华;蒋恺 申请(专利权)人: 南昌大学;南昌硅基半导体科技有限公司
主分类号: H01L33/40 分类号: H01L33/40;H01L33/36
代理公司: 江西省专利事务所 36100 代理人: 张文
地址: 330031 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开了一种AlGaInN发光二极管的接触结构,包括AlGaInN接触层,第一接触层和第二接触层;第二接触层越过第一接触层与AlGaInN接触层接触;第一接触层位于AlGaInN接触层和第二接触层之间;第一接触层至少与AlGaInN接触层和第二接触层的一个是肖特基接触或者绝缘。本发明通过改变第一接触层面积,调节AlGaInN接触层与第二接触层的在各处的接触面积和电阻,在保证电流在第二接触层上传输的前提下,分配AlGaInN接触层和器件各处所获得的电流比例。
搜索关键词: 一种 algainn 发光二极管 接触 结构
【主权项】:
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