[发明专利]岛膜状纳米立方阵列结构的制备方法在审
| 申请号： | 202111171041.3 | 申请日： | 2021-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN114226743A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 董军;杨程元;祁建霞;高伟;王勇凯;韩庆艳;吴浩然 | 申请（专利权）人： | 西安邮电大学 |
| 主分类号： | B22F9/24 | 分类号： | B22F9/24;B22F1/054;B22F1/17;C23C26/00;G01N21/65;B82Y15/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 重庆萃智邦成专利代理事务所(普通合伙) 50231 | 代理人： | 许攀 |
| 地址： | 710121 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本申请涉及岛膜状纳米立方阵列结构的制备方法，具体而言，涉及纳米立方阵列结构领域。本申请提供的岛膜状纳米立方阵列结构的制备方法，方法包括：将预设基底设置在第一容器内部，预设硅片设置在预设基底上，金银核壳纳米立方溶胶设置在预设硅片表面，使用第二容器罩设在预设基底上；由于边缘效应的作用使得该金银核壳纳米立方溶胶的中心位置和边缘位置的蒸发速率不同，本申请由于通过控制该金银核壳纳米立方溶胶的温度或者湿度，使得该金银核壳纳米立方溶胶的中心位置和边缘位置的蒸发速率接近，进而避免了咖啡环效应，将预设探针分子沉积在岛膜状纳米立方阵列结构表面；预设探针分子使得本申请的岛膜状纳米立方阵列结构对拉曼光谱强度的检测。 | ||
| 搜索关键词： | 岛膜状 纳米 立方 阵列 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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