[发明专利]集成电路器件

摘要

一种集成电路器件包括：衬底，在其中具有有源区；在衬底上的位线；以及直接接触，在有源区和位线之间延伸并将位线电连接到有源区的一部分。还提供间隔物结构，其在位线的侧壁上以及在直接接触的侧壁上延伸。提供场钝化层，其在直接接触的侧壁与间隔物结构之间延伸。间隔物结构和场钝化层可以包括不同的材料，并且场钝化层可以与直接接触的侧壁直接接触。场钝化层可以包括非化学计量硅氧化物SiOx，其中0.04≤x≤0.4，并且可以具有约或更小的厚度。