[发明专利]用于移除和/或避免带电粒子束系统中污染的方法和系统在审

专利信息
申请号: 202111172533.4 申请日: 2017-04-21
公开(公告)号: CN113871279A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: M·斯米茨;J·J·科宁;C·F·J·洛德韦克;H·W·穆克;L·阿塔尔德 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H01J37/02 分类号: H01J37/02;H01J37/26;H01J37/317;H01J37/32
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 闫昊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种带电粒子束系统,其包括:带电粒子束发生器,其用于产生带电粒子的射束;带电粒子光学列,其布置在真空腔中,带电粒子光学列被布置成将带电粒子的射束投射到目标上,带电粒子光学列包括影响带电粒子的射束的带电粒子光学元件;提供清洁剂的源;导管,其连接到源并且布置成将清洁剂朝向带电粒子光学元件引入;其中带电粒子光学元件包括:带电粒子传输孔,其用于传输和/或影响带电粒子的射束;以及至少一个通气孔,其在带电粒子光学元件的第一侧和第二侧之间提供流动路径;其中通气孔的横截面大于带电粒子传输孔的横截面。此外,公开了一种用于防止或移除带电粒子传输孔中污染的方法,其包括在射束发生器运行时引入清洁剂的步骤。
搜索关键词: 用于 避免 带电 粒子束 系统 污染 方法
【主权项】:
暂无信息
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