[发明专利]限制环以及等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202111181000.2 | 申请日： | 2021-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN115966451A | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 吴昊;王乔慈 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 曹媛;张双红 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种限制环，用于等离子体处理装置，所述等离子体处理装置包括基座，所述限制环围绕所述基座设置于所述等离子体处理装置的等离子体反应区域和排气区域之间，所述限制环包括同心设置的多个环板，多个所述环板沿所述基座的径向排列，相邻两个环板之间的缝隙形成气体通道；至少两个环板具有磁性，相邻两个具有磁性的环板之间形成磁场，所述磁场限制从所述等离子体反应区域排出的带电粒子由所述气体通道流入所述排气区域。相应的，还提供一种包含上述限制环的等离子体处理装置。本发明既能够提升抽气效率，又能保证足够的电子、离子碰壁率，降低等离子体泄露的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 限制 以及 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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