[发明专利]发光性能稳定的量子点复合转光材料及制备其的磁控溅射法在审
申请号: | 202111183589.X | 申请日: | 2021-10-11 |
公开(公告)号: | CN113897192A | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 胡广齐;叶炜浩;陈焰;梁敏婷 | 申请(专利权)人: | 佛山安亿纳米材料有限公司 |
主分类号: | C09K11/02 | 分类号: | C09K11/02;C09K11/62;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 肖宇扬 |
地址: | 528143 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明的目的在于提供一种发光性能稳定的量子点复合转光材料包括基底和沉积于基底表面的包覆膜,基底为内部填充有量子点的聚硅氧烷微球,包覆膜为采用磁控溅射法成型。本发明采用单晶硅、金属钛、金属铝或上述物料中的任意组合作为靶材,以O |
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搜索关键词: | 发光 性能 稳定 量子 复合 材料 制备 磁控溅射 | ||
【主权项】:
暂无信息
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