[发明专利]一种光敏剂及含其的i线光刻胶和制备方法在审
| 申请号： | 202111188992.1 | 申请日： | 2021-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN115963693A | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 方书农;王溯;耿志月;崔中越 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种光敏剂及含其的i线光刻胶和制备方法。本发明公开的i线光刻胶组合物的制备方法包括下列步骤：将i线光刻胶组合物中的各组分混合均匀即可，所述的i线光刻胶组合物包括以下组分：酚醛树脂、光敏剂、有机硅流平剂和有机溶剂；其中，光敏剂由光敏剂A和光敏剂B组成。采用本发明的光敏剂制得的i线光刻胶组合物在用于i线光刻时得到的光刻胶图形光敏性和分辨率高。 |
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| 搜索关键词： | 一种 光敏剂 光刻 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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