[发明专利]集成电路中的集成电容器在审

专利信息
申请号: 202111195718.7 申请日: 2021-10-14
公开(公告)号: CN114582885A 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: E·N·斯蒂芬诺夫;P·K·阿布达 申请(专利权)人: 恩智浦美国有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L49/02
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 张小稳
地址: 美国得*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及集成电路中的集成电容器。本文公开一种SOI IC,所述SOI IC包括集成电容器,所述集成电容器包括金属‑绝缘体‑金属MIM电容器、第二电容器、第三电容器和第四电容器的并联布置:其中所述第二电容器包括所述衬底和具有n型掺杂的多个半导体层中的一个作为板,且包括掩埋氧化物层作为电介质;所述第三电容器包括多晶硅层和具有n型掺杂的多个半导体层中的另外的一个作为板,且包括所述多个半导体层与金属化堆栈之间的绝缘层作为电介质;并且所述第四电容器包括多晶硅插塞和所述多个半导体层中的至少一个作为板,且包括氧化物内衬作为电介质,其中所述氧化物内衬和所述多晶硅插塞形成横向隔离(DTI)结构的一部分。
搜索关键词: 集成电路 中的 集成 电容器
【主权项】:
暂无信息
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