[发明专利]纳米压印胶层的制作方法和光学元件在审
| 申请号： | 202111199916.0 | 申请日： | 2021-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN113900354A | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 苑洪钟;曹雪峰;陈远 | 申请（专利权）人： | 宁波舜宇奥来技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 刘娜 |
| 地址： | 315455 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种纳米压印胶层的制作方法和光学元件，纳米压印胶层的制作方法包括：步骤S10：在基底上涂布胶水并形成厚度均匀的胶层；步骤S20：将掩模板放置在胶层的上方形成中间件；步骤S30：将中间件放入干法刻蚀设备内进行刻蚀形成厚度不均匀的刻蚀件；步骤S40：若需要刻蚀的区域的数量N大于1，则将掩模板移动到预设位置后重复N‑1次步骤S20至步骤S30后执行步骤S50；若需要刻蚀的区域的数量N等于1，则执行步骤S50；步骤S50：将刻蚀件取出，并将掩模板与胶层分离，并对胶层压印。本发明解决了现有技术中压印工艺存在容易产生厚度不一致的残胶的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 制作方法 光学 元件 | ||
【主权项】：
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