[发明专利]混合多堆叠半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202111202233.6 申请日: 2021-10-15
公开(公告)号: CN114512481A 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 宋昇炫;洪炳鹤 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234;H01L29/06
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王新华
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种混合多堆叠半导体器件及其制造方法。该混合多堆叠半导体器件包括纳米片堆叠和形成在纳米片堆叠之上的鳍式场效应晶体管(finFET)堆叠,其中纳米片堆叠包括形成在衬底之上并被第一栅极结构围绕的多个纳米片层,其中finFET堆叠包括被第二栅极结构围绕的至少一个鳍结构,其中所述至少一个鳍结构具有相对于纳米片堆叠的自对准形式,使得在所述至少一个鳍结构的最左侧表面与纳米片堆叠的左侧表面之间的左水平距离等于在所述至少一个鳍结构的最右侧表面与纳米片堆叠的右侧表面之间的右水平距离。
搜索关键词: 混合 堆叠 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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