[发明专利]曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法在审
| 申请号： | 202111202524.5 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN113900361A | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 白户章仁;涩谷敬 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/13;G02B26/10;B41J2/465;G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 杨勇;崔博 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 控制系根据使用多个读头(66a～66d)中测量光束照射于第1格子群之标尺(152a～152c)及第2格子群之标尺(152d～152f)之至少两个标尺之至少四个读头(66a～66d)所测量之移动体之位置信息，取得与标尺(152a～152c)及标尺(152d～152f)之至少两个相关之格子修正信息，格子修正信息用在使用测量光束照射于标尺(152a～152c)及标尺(152d～152f)中之至少两个格子之至少三个读头的移动体之移动控制。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 平面 显示器 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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