[发明专利]一种用于生产集成电路引线框架的蚀刻设备有效
申请号: | 202111239007.5 | 申请日: | 2021-10-25 |
公开(公告)号: | CN113964064B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 康亮;康小明;马文龙 | 申请(专利权)人: | 天水华洋电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L23/495 |
代理公司: | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 陆华 |
地址: | 741020 甘肃省*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及蚀刻技术领域,尤其是一种用于生产集成电路引线框架的蚀刻设备,包括支撑座,所述支撑座的顶部固定安装有蚀刻池,所述蚀刻池用于存放蚀刻液供蚀刻使用,所述蚀刻池的上方设有多个壳体,多个壳体的顶部共同设有水平传动机构,所述水平传动机构用于带动壳体进行水平传动所述壳体的底部通过弹性支撑机构固定连接有两个蚀刻板;在水平传动机构带动多对壳体从左往右移动的过程中,并在引导机构和弹性支撑机构联合作用下借助两个蚀刻板将引线框架夹持住,引导机构将夹持有引线框架的每对蚀刻板带入放置有蚀刻液的蚀刻池内,并且蚀刻液会漫入蚀刻孔内对需要蚀刻的地方进行蚀刻处理。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 生产 集成电路 引线 框架 蚀刻 设备 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造