[发明专利]一种硅单晶研磨剂及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 202111264157.1 | 申请日： | 2021-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN113999653B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 胡剑峰;张思行;瞿金清 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02;C09K23/18;C09K23/42;C01B32/956;C01B21/064;C08G65/333;C08G65/337;H01L21/304 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 饶周全 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及研磨抛光技术领域，提供了一种硅单晶研磨剂的制备方法及应用，所述硅单晶研磨剂按照质量份数含β‑SiC微粉8～12份、CBN微粉1～5份、六方氮化硼微粉1～3份、聚丙烯酰胺3～5份、葡萄糖酸钠4～6份、聚乙二醇4～6份、四甲基氢氧化铵4～6份、水性聚酯润滑剂2～4份、烷基酚聚氧乙烯醚型季铵盐表面活性剂6～10份；pH值调节剂；水35～45份。本申请提供的高效硅单晶研磨剂较之传统金刚石、二氧化硅、碳化硅等抛光剂制备简单，成本相对低廉，具有高稳定性和悬浮性，使抛光后的单晶硅片获得良好的磨抛精度、磨抛效率。研磨剂废液回收方案符合资源节约、循环利用的绿色化学理念，具有极强的实用性与可操作性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅单晶 研磨剂 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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