[发明专利]一种高体分铝基碳化硅复合材料表面化学镀镍方法在审
| 申请号： | 202111271969.9 | 申请日： | 2021-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN114150297A | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 李家峰;靳宇;王楠;冯立;李泊;佟晓波;穆国栋;王景润;蔺鹏婷;曹克宁 | 申请（专利权）人： | 北京卫星制造厂有限公司 |
| 主分类号： | C23C18/18 | 分类号： | C23C18/18;C23C18/36 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 范晓毅 |
| 地址： | 100190*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高体分铝基碳化硅复合材料表面化学镀镍方法，首先对高体分铝基碳化硅基材表面采用金属/非金属异种组分界面均一化活化处理，提高后续化学镀镍层在该基材表面的覆盖性，随后进行第一次化学镀镍，在基材表面获得低应力化学镀镍层，再进行第二次化学镀镍，形成大厚度(可达80μm以上)、高致密的光学级化学镀镍层，最后通过阶梯热处理降低镀层应力，提高镀层与基体之间的结合力，最终获得可应用于光学加工的高性能高致密光学级镀层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高体分铝基 碳化硅 复合材料 表面 化学 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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