[发明专利]一种双面光刻机工件台在审
| 申请号： | 202111284491.3 | 申请日： | 2021-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN113820925A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 张其文;扶小莲;刘阳波;陈正洪 | 申请（专利权）人： | 四川鸿源鼎芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 成都信捷同创知识产权代理事务所(普通合伙) 51323 | 代理人： | 左正超 |
| 地址： | 610199 四川省成都市龙泉*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明属于光刻机技术领域，公开了一种双面光刻机工件台，包括XYY平台、固定安装在XYY平台上的下安装台以及位于下安装台上方的上安装台，上安装台安装在升降机构上，上安装台上安装有上掩膜版，下安装台上安装有下掩膜版；XYY平台和下安装台之间设有摄像头。本发明所提供的双面光刻机工件台，XYY平台先自动找平，然后上安装台下降直到上安装台和下安装台贴合，贴合后通过摄像头对上掩膜版和下掩膜版进行对位识别，如果没有对位成功，则通过XYY平台对下安装台进行微调直到对位成功，该工件台对位过程无需人工操作，可以有效提高对位的速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 光刻 机工 | ||
【主权项】：
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