[发明专利]N型和P型鳍式晶体管的集成电路结构在审

专利信息
申请号: 202111292193.9 申请日: 2021-11-03
公开(公告)号: CN114121952A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 翁文寅 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种N型和P型鳍式晶体管的集成电路结构,N型和P型鳍式晶体管分别形成于第一和第二鳍体上,在第一和第二鳍体上分别具有第一和第二扩散区切断结构。第一扩散区切断结构的第一介质层采用应力材料使第一扩散区切断结构具有第一应力。第一扩散区切断结构的第二介质层采用应力材料使第二扩散区切断结构具有和第一应力不同的第二应力,第一应力按照改善第一沟道区的载流子迁移率要求设置,第二应力按照改善第二沟道区的载流子迁移率的要求设置。本发明能消除鳍体的扩散区切断结构的应力对晶体管的性能的不利影响并同时利用鳍体的扩散区切断结构的应力来同时改善N型和P型鳍式晶体管的性能。
搜索关键词: 型鳍式 晶体管 集成电路 结构
【主权项】:
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