[发明专利]一种低温烧结改性NiO-Ta2 有效
申请号: | 202111292700.9 | 申请日: | 2021-11-03 |
公开(公告)号: | CN113860871B | 公开(公告)日: | 2022-12-13 |
发明(设计)人: | 邢孟江;曲明山;杨鸿宇;孙成礼 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01B3/12 | 分类号: | H01B3/12;C04B35/495;C04B35/622;C04B35/64 |
代理公司: | 北京新科华领知识产权代理事务所(普通合伙) 16115 | 代理人: | 吴变变 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: |
本发明属于电子陶瓷及其制造领域,具体为一种低温烧结改性NiO‑Ta |
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搜索关键词: | 一种 低温 烧结 改性 nio ta base sub | ||
【主权项】:
暂无信息
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