[发明专利]一种图案化二维半金属薄膜的方法及其应用在审

专利信息
申请号: 202111294178.8 申请日: 2021-11-03
公开(公告)号: CN114023848A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 杨玉珏;刘子浩;黄颖;束开翔;董华锋;张欣;吴福根 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/032;H01L31/109
代理公司: 北京清控智云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11919 代理人: 仵乐娟
地址: 510006 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种图案化二维半金属薄膜的方法及其应用,其包括在基底上旋涂光刻胶层后加热所述光刻胶层;曝光、显影形成图案化的光刻胶层;在图案化的光刻胶层上沉积预定厚度的Pt层;将沉积有Pt层的基底放置于第一无水乙醇中去除光刻胶层,随后将基底放置于第二无水乙醇中超声预定时间形成图案化的Pt层,所述超声的能量密度为42~54W/cm3;采用化学气相沉积工艺在基底上形成图案化的二维半金属二硫属化物PtR2层。该方法获得的二维半金属PtR2图案成功率高,其图案表面平整,厚度均匀,边缘非常整齐清晰没有残留。
搜索关键词: 一种 图案 二维 金属 薄膜 方法 及其 应用
【主权项】:
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