[发明专利]X射线分析装置以及X射线分析方法在审

专利信息
申请号: 202111298239.8 申请日: 2021-11-04
公开(公告)号: CN115015296A 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 原田大辅;欅泰行 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N23/046 分类号: G01N23/046
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 薛恒;徐川
地址: 日本京都府京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种X射线分析装置,可容易且准确地进行用于获得X射线透过图像的、摄影对象的定位。X射线分析装置设为下述结构,即包括:X射线源(10);X射线检测器(11),检测从X射线源(10)照射的X射线;以及旋转平台(12)(平台),配置于X射线源(10)与X射线检测器(11)之间,保持摄影对象(W),且所述X射线分析装置包括:光照射机构(20),向与从X射线源(10)照射的X射线的X射线光轴(L)相同的光轴上照射光,在X射线检测器(11)的位置形成摄影对象(W)的影子。
搜索关键词: 射线 分析 装置 以及 方法
【主权项】:
暂无信息
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