[发明专利]一种降低石英表面粗糙度至亚纳米量级的方法在审
| 申请号： | 202111308585.X | 申请日： | 2021-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN114057411A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 瓦西里·卡涅夫斯基;谢尔希·科列诺夫;瓦列里·格里戈鲁克;张昊;斯杰里马赫·亚历山大 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | C03C23/00 | 分类号： | C03C23/00;C03B20/00 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 杨常建 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种降低石英表面粗糙度至亚纳米量级的方法，该方法包括以下步骤：确定样品待加工表面的粗糙度参数；将样品放置于透明基板的顶面上；在样品的待加工表面涂覆含有氯分子的水溶液，并使水溶液的折射率小于样品的折射率；从透明基板外侧向样品的待加工表面发射相干单色线偏振辐射光，使相干单色线偏振辐射光从入光面垂直入射；保持相干单色线偏振辐射光对样品的待加工表面照射预定时间，实现对待加工表面的抛光处理。上述方法能够降低近场抛光所需的辐射功率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降低 石英 表面 粗糙 度至亚 纳米 量级 方法 | ||
【主权项】：
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