[发明专利]量子点的后处理方法及其制备方法在审
| 申请号： | 202111318101.X | 申请日： | 2021-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN113861963A | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 蒋畅;程陆玲 | 申请（专利权）人： | 合肥福纳科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/02 | 分类号： | C09K11/02;C09K11/70;C09K11/88 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 刘桐亚 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市新站*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及量子点制备技术领域，具体而言，涉及量子点的后处理方法及其制备方法。量子点的后处理方法包括：利用碱性物质对量子点进行处理。该方法可以有效去除量子点特别是Ⅲ‑Ⅴ族量子点合成后反应体系中多余的阳离子，继而提升量子点的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 处理 方法 及其 制备 | ||
【主权项】：
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