[发明专利]光学测量设备在审
| 申请号： | 202111319078.6 | 申请日： | 2021-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN114518069A | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 南川义久;武井英人;末村悠祐 | 申请（专利权）人： | 株式会社基恩士 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/27 |
| 代理公司： | 北京格罗巴尔知识产权代理事务所(普通合伙) 11406 | 代理人： | 项军花 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光学测量设备，其相对于基准面进行光轴调节并获得高测量精度。在箱形光接收壳体的外面中，具有在放置光接收壳体时成为基准的基准面。在光接收壳体中，安装有光接收侧远心透镜。保持二维成像元件的成像元件保持件设置于光接收壳体的与导入开口相对的内面，并且二维成像元件以位置和姿势可调的方式安装。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社基恩士，未经株式会社基恩士许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111319078.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：氮化硅膜的成膜方法和成膜装置
- 下一篇：半导体器件及其制造方法
