[发明专利]一种应用于高精度高共模差动放大器的电阻版图排布结构及修调方法在审

专利信息
申请号: 202111319388.8 申请日: 2021-11-09
公开(公告)号: CN114091397A 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 杨法明;朱坤峰;欧宏旗;钟怡;税国华;徐磊;殷万军;张广胜 申请(专利权)人: 重庆中科渝芯电子有限公司;中国电子科技集团公司第二十四研究所
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392
代理公司: 重庆缙云专利代理事务所(特殊普通合伙) 50237 代理人: 王翔
地址: 401332 *** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种应用于高精度高共模差动放大器的电阻版图排布结构及修调方法,电阻版图排布结构包括两个阻值不同的电阻阵列;修调方法步骤为:1)量测第一电阻阵列的实际阻值;2)设定第二电阻阵列的修调目标值,记为N*R;3)量测第二电阻阵列的实际阻值;4)对第二电阻阵列中可修调背包电阻RN的粗调区域进行激光修调;6)对第二电阻阵列中可修调背包电阻RN的细调区域进行激光修调,并返回步骤7)。本发明通过对两个电阻的版图特殊排布,降低两个电阻在工艺加工过程中的偏差,提高两个电阻的初始匹配度,可以在仅修调一个电阻和较小的电阻修调面积下,达到较高的电阻匹配度和降低了修调成本,提高了电阻稳定性。
搜索关键词: 一种 应用于 高精度 高共模 差动 放大器 电阻 版图 排布 结构 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆中科渝芯电子有限公司;中国电子科技集团公司第二十四研究所,未经重庆中科渝芯电子有限公司;中国电子科技集团公司第二十四研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111319388.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top