[发明专利]散射校正方法和设备在审
| 申请号： | 202111319691.8 | 申请日： | 2021-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN114037773A | 公开（公告）日： | 2022-02-11 |
| 发明（设计）人： | 胡仁芳 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T11/00 | 分类号： | G06T11/00;G06T5/00;G06N3/04 |
| 代理公司： | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人： | 金无量 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及一种散射校正方法和设备，其中，该散射校正方法包括：获取扫描对象的定位像；基于训练好的散射校正模型，根据定位像，确定扫描对象的散射分布估计信息；基于定位像获取扫描对象的扫描信息；根据散射分布估计信息对扫描信息进行散射校正。通过本申请，解决了相关技术中由于散射估计耗时较长，导致整个散射校正过程时间成本较高、效率较低的问题，节约了散射估计的时间，提高了散射校正过程的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 散射 校正 方法 设备 | ||
【主权项】：
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