[发明专利]图案转印系统、双通道生产线及图案转印方法在审
| 申请号： | 202111321391.3 | 申请日： | 2021-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN116100937A | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | 加德·伊格拉;埃亚尔·科恩;埃兰·云格;摩西·菲纳罗夫;徐涛;石径;童为国;李志刚 | 申请（专利权）人： | 武汉帝尔激光科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B41F16/00 | 分类号： | B41F16/00;B41F13/02;B41F23/00;B41F23/04;B41F33/16 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 周慧敏 |
| 地址： | 430223 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 提供图案转印(PTP)系统和方法及双通道生产线，以提高图案转印的质量，准确性和产能。PTP系统包括：带处理单元，配置为处理带并且将带以步进且重复模式从放料辊移动到收料辊，带包括作为其分段的多个图案转印片，其具有各自的沟槽图案，带处理单元配置为可控制地传送图案转印片以便进行浆料填充并相继地进行图案转印；浆料填充单元，配置为将导电印刷浆料填充到传送的图案转印片上的沟槽；晶片处理单元，配置成将至少一个晶片可控制地传送至靠近图案转印片的位置处以便图案转印；以及浆料转印单元，配置为通过在激光束的照射下从填充有导电印刷浆料的图案转印片的沟槽中释放该导电印刷浆料而将该导电印刷浆料从图案转印片转印至传送到位的晶片上。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 系统 双通道 生产线 方法 | ||
【主权项】：
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