[发明专利]一种提高多晶硅还原炉能效的高纯石英质硅芯在审
| 申请号： | 202111339544.7 | 申请日： | 2021-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN113816383A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 聂陟枫;王亚君;王晨;郭崎均;宋玉敏;郭婷婷;王海;谢刚 | 申请（专利权）人： | 昆明学院 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035;C04B35/14;C04B35/622 |
| 代理公司： | 昆明同聚专利代理有限公司 53214 | 代理人： | 谢丹丹 |
| 地址： | 650214 云南省*** | 国省代码： | 云南;53 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种提高多晶硅还原炉能效的高纯石英质硅芯，本发明将硅芯设置成空心结构且以高纯石英质材料制得，所述高纯石英质硅芯为空心硅芯，所述高纯石英质硅芯替代原多晶硅还原炉内的实心硅芯，所述高纯石英质硅芯以纯度为99.99%以上的高纯度结晶石英为原料，使用胶体处理方法制得；本发明有效克服了传统实心硅芯直径小、沉积面积受限的弊端，大幅度提高了多晶硅化学气相沉积速度，提升了多晶硅还原炉能效。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 多晶 还原 能效 高纯 石英 质硅芯 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明学院，未经昆明学院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111339544.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
