[发明专利]一种高截止深度的双通道滤光片及其制备方法在审
| 申请号： | 202111344287.6 | 申请日： | 2021-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN114236662A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 李卫涛;任海峰;汪洋;谭承启 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;A61B18/18 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 周宇凡 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及滤光片镀膜技术领域，尤其是一种高截止深度的双通道滤光片及其制备方法，包括基板、主叠层膜系和副叠层膜系，所述主叠层膜系和所述副叠层膜系分别位于所述基板的两侧，所述主叠层膜系和所述副叠层膜系的组合体系使所述滤光片可透过波长540‑570nm和680‑700nm波段光，且所述滤光片对紫外线至近红外线波长范围内的其余波段光截止。本发明的优点是：可选择性地透过560nm和690nm附近波段目标光，对其它波段从紫外到近红外截止，具有通带透过率高，截止深度深，截止带宽宽的特点；使得终端产品同时具有去色斑和脱毛的双重作用，弥补了现有单通道滤光片只能解决单一问题（去色斑或脱毛）的不足，满足了特定场合需要同时解决两种问题的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 截止 深度 双通道 滤光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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