[发明专利]对双摄像机进行立体校准的方法在审
| 申请号： | 202111346427.3 | 申请日： | 2020-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN113891059A | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 纳达夫·吉瓦;帕斯·伊兰;奥德·吉古辛斯基;以法莲·戈登堡;加尔·沙伯泰 | 申请（专利权）人： | 核心光电有限公司 |
| 主分类号： | H04N13/246 | 分类号： | H04N13/246;H04N13/239 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 以色列特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 对包含一第一摄像机及一第二摄像机的一双摄像机进行立体校准的的方法。在一些实施例中，一方法包含：使用所述摄像机的初始内在参数及可选地初始外在参数，来获得优化外在参数及优化内在参数；使用所述优化外在参数及所述外在参数，来估计一无穷大偏移量e；使用所述优化外在参数、所述外在参数及所述无穷大偏移量参数e，来估计一缩放因子s，其中一起使用所述优化外在参数及所述外在参数、所述无穷大偏移量e及所述缩放因子s，来提供立体校准，从而改善深度估计。 | ||
| 搜索关键词： | 摄像机 进行 立体 校准 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于核心光电有限公司，未经核心光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111346427.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基于外部特性的电池簇不一致性在线监测方法
- 下一篇：拍摄方法及装置
