[发明专利]一种ZIF-L衍生的负载单分散FeNx活性位点的多级孔碳及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202111371630.6 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN114068964B 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 李阳;吴顺;张凤宝;范晓彬 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01M4/90 分类号: H01M4/90;H01M4/88;H01M12/06
代理公司: 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 代理人: 刘晓佳
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开了一种ZIF‑L衍生的负载单分散FeNx活性位点的多级孔碳及其制备方法与应用,属于电化学催化技术领域。所述多级孔碳为中部开设有通孔的类六边形片状结构,所述片状结构中分布有大孔、介孔和微孔,所述多级孔碳上负载有单原子Fe。该多级孔碳的二维形貌利于传质,同时其具有微孔、介孔及大孔,孔道丰富,从而使活性位点充分暴露,使得反应物更易接触活性位点,提升了比表面积,优化了传质效应,其作为氧还原反应的催化剂,可以大大降低反应势垒,电化学性能优异。
搜索关键词: 一种 zif 衍生 负载 分散 fenx 活性 多级 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学,未经天津大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111371630.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top