[发明专利]一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法在审
申请号: | 202111394143.1 | 申请日: | 2021-11-23 |
公开(公告)号: | CN114164417A | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 刘兴光;郑军;王启民;赵栋才;张林 | 申请(专利权)人: | 安徽工业大学 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48;C23C14/35;C23C14/32;C23C16/52;C23C14/54 |
代理公司: | 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 | 代理人: | 王林 |
地址: | 243032 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及气相沉积技术领域,具体涉及一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法,使用真空紫外光对气相沉积过程中的气相粒子(或固相靶材表面的原子)进行光电电离,从而针对不同种类的粒子,设计不同的离化率调控方案,实现薄膜显微组织结构、化学成分等的针对性精准调控,进一步显著的优化多层结构、梯度结构、纳米复合结构等气相沉积薄膜的性能/功能,如:机械性能、力学性能、摩擦学性能、光学性能、电学性能、磁学性能、介电性能、半导体带隙及特性等各类性能/功能,因此具有不可替代的重要意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 使用 真空 紫外光 实现 沉积 不同 粒子 可控 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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