[发明专利]一种表面成像方法、存储介质及设备在审
| 申请号： | 202111403624.4 | 申请日： | 2021-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN116147530A | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 李玉鹏;伍俊龙 | 申请（专利权）人： | 广州视源电子科技股份有限公司;广州视源人工智能创新研究院有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/25 | 分类号： | G01B11/25 |
| 代理公司： | 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 | 代理人： | 张晓芳 |
| 地址： | 510530 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种表面成像方法、存储介质及设备，方法包括：采用投影组件向参考平面投射光栅条纹，采用摄像组件基于光栅条纹生成针对参考平面的参考相位分布和相位误差分布，对参考相位分布进行分块滤波处理获取目标相位分布，对相位误差分布进行分块滤波处理获取目标相位误差分布，基于目标相位分布和目标相位误差分布生成补偿相位查找表，获取针对参考平面上的待测物体的实际相位分布，基于补偿相位查找表对实际相位分布进行补偿处理，基于补偿处理后的实际相位分布对待测物体进行表面成像处理。根据分块滤波处理后的参考相位分布和相位误差分布生成的补偿相位查找表，对实际相位分布进行补偿处理，提高表面成像处理的抗噪性、效率和精准度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 成像 方法 存储 介质 设备 | ||
【主权项】：
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