[发明专利]一种辐射剂量仪校准装置、系统及方法在审

专利信息
申请号: 202111404686.7 申请日: 2021-11-24
公开(公告)号: CN114063143A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 高飞;王菲菲;刘蕴韬;王子琳;陈义珍;倪宁;张昕宇;刘佳瑞 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G01T7/00 分类号: G01T7/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 陈煌辉;张颖玲
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请实施例公开了一种辐射剂量仪校准装置、系统及方法,涉及仪器校准技术领域,解决了相关技术中校准环境复杂,干扰难以排除的问题。该辐射剂量仪校准装置,包括射线照射仪和屏蔽箱,射线照射仪用于产生参考辐射;屏蔽箱用于隔离辐射,屏蔽箱密封设置,其一侧开有入射口,入射口与射线照射仪的出射口密封对接,以使射线照射仪发出的射束进入屏蔽箱内;屏蔽箱上开有探入孔,用于使被校准仪表伸入屏蔽箱内,被校准仪表与探入孔处密封连接,被校准仪表的探头位于射线照射仪发出的射束中心轴线上。本申请的辐射剂量仪校准装置对辐射剂量仪表进行校准。
搜索关键词: 一种 辐射 剂量 校准 装置 系统 方法
【主权项】:
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