[发明专利]一种量子点修饰的纳米片复合材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111408738.8 申请日: 2021-11-19
公开(公告)号: CN114225948A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 郑金龙;郝菊;任显卓;吕超杰;吴凯利;陈媛媛;武继文 申请(专利权)人: 北京科技大学顺德研究生院
主分类号: B01J27/051 分类号: B01J27/051;B01J35/00;C07D307/68;C25B1/04;C25B11/091
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 代理人: 张仲波
地址: 528300 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明通过界面工程构建了具有多级结构的铁系化合物复合材料,该复合材料为二硫化钼量子点修饰的层状镍钴氢氧化物/氧化铁纳米管。合成条件为首先制备出三维氧化铁纳米管,然后通过水热反应,在氧化铁表面上生长镍钴层状双氢氧化物(NiCo‑LDH),得到层状双氢氧化物(LDH)超薄纳米片与氧化铁纳米管的复合材料,将该复合材料与二硫化钼量子点按一定比例混合,得到二硫化钼量子点修饰的层状镍钴氢氧化物/氧化铁纳米管复合材料。独特的片层状结构暴露更多与电解液接触的催化活性位点,使得材料具有更高析氧(OER)催化活性,同时界面的出现促进了电子转移,提高化合物的析氧性能。该制备方法具有设备简单、易于实现控制、工艺重复性好、产品质量稳定等优点,具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 量子 修饰 纳米 复合材料 制备 方法
【主权项】:
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