[发明专利]偏光片、偏光片制备方法及显示装置在审
| 申请号： | 202111413430.2 | 申请日： | 2021-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN114114515A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 李明阳;林仲宏 | 申请（专利权）人： | 业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;业成光电（无锡）有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14;B26F1/16;B23K26/382;B23K26/402 |
| 代理公司： | 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 | 代理人： | 芶雅灵 |
| 地址： | 611730 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种偏光片、偏光片制备方法及显示装置，其中，偏光片包括偏光层、第一保护层以及第二保护层，第一保护层和第二保护层分设于偏光层的相对两侧，偏光层上设有透光孔，第一保护层在偏光层上的正投影以及第二保护层在偏光层上的正投影均覆盖透光孔。该偏光片能够解决传统偏光片需要在对应感光器件的位置钻孔以实现局部消偏光，容易导致偏光片的孔洞边缘破裂，并导致偏光片的保护层被破坏的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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