[发明专利]一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法有效
申请号: | 202111414307.2 | 申请日: | 2021-11-25 |
公开(公告)号: | CN114136896B | 公开(公告)日: | 2023-07-21 |
发明(设计)人: | 刘华松;刘丹丹;冷健;尚鹏;杨霄;孙鹏;邢宇哲;顿世杰;何健;孟森;何家欢;徐颖 | 申请(专利权)人: | 天津津航技术物理研究所 |
主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25;G01N21/41;G01N21/47;G01N21/59;G01N21/21 |
代理公司: | 天津市鼎拓知识产权代理有限公司 12233 | 代理人: | 刘雪娜 |
地址: | 300000 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: |
本申请提供一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法,包括以下步骤:设定单层薄膜;设定所述单层薄膜的目标工艺参数A;设置所述目标工艺参数A的值A |
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搜索关键词: | 一种 光学薄膜 光学 常数 工艺 相关性 实验 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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