[发明专利]双极晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111414757.1 申请日: 2021-11-25
公开(公告)号: CN114122110A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 魏佳男;张培健;罗婷;陈仙;税国华;仵韵辰;易孝辉;洪敏;任芳 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十四研究所
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/735;H01L21/331
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 李铁
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种双极晶体管及其制备方法,所述双极晶体管包括:衬底、外延层、基区、发射区、深集电极接触区、环形掺杂区、基极接触、发射极接触及环形集电极接触,环形掺杂区环绕基区,环形集电极接触分别与深集电极接触区及环形掺杂区电连接。通过包围基区和发射结的环形掺杂区,以及与环形掺杂区电连接的环形集电极接触,形成了一个抗总剂量加固结构,该抗总剂量加固结构在上电时会形成一个环形电场,该环形电场可使发射结注入基区的少数载流子能够沿多个方向的传输路径被集电结收集,降低了电流传输路径上的载流子浓度,削弱了基区中少子向界面位置的扩散,降低了基区Si/SiO2界面附近的载流子复合率,抑制了基极电流的增加,提高了抗总剂量能力。
搜索关键词: 双极晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第二十四研究所,未经中国电子科技集团公司第二十四研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111414757.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top