[发明专利]干膜抗蚀剂及其制备方法在审
| 申请号： | 202111415164.7 | 申请日： | 2021-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN114114837A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 朱薛妍;严晓慧;李伟杰;张浙南 | 申请（专利权）人： | 杭州福斯特电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 梁文惠 |
| 地址： | 311300 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种干膜抗蚀剂及其制备方法。干膜抗蚀剂包括支撑层和抗蚀剂层，形成抗蚀剂层的原料包括碱溶性树脂、可光聚合单体和光引发剂，其特征在于，抗蚀剂层为预交联层，抗蚀剂层的交联度为2％～15％。将抗蚀剂层设置为预交联层，即在收卷之前其为经过部分交联的结构，经过预交联后抗蚀剂层的流动性得到了有效控制，且通过对抗蚀剂层交联度的控制又保证了其具有足够的追随性。同时，上述交联度为2％～15％的抗蚀剂层，其具有足够的解析度和显影性，不影响其后续图形化使用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 干膜抗蚀剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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