[发明专利]薄膜晶体管、阵列基板与显示面板在审

专利信息
申请号: 202111415586.4 申请日: 2021-11-25
公开(公告)号: CN114122147A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 宋尊庆 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/423;H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉;阚梓瑄
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种薄膜晶体管、阵列基板和显示面板,薄膜晶体管包括:有源层、栅绝缘层和栅极,有源层包括沟道区和位于所述沟道区两侧的源极区和漏极区;栅绝缘层位于所述有源层的一侧;栅极位于所述栅绝缘层背离所述有源层的一侧,所述栅极包括靠近所述漏极区的第一区域、靠近所述源极区的第二区域和位于所述第一区域和所述第二区域之间的第三区域;其中,所述栅极在相同电平信号下,所述第三区域作用于所述沟道区上的电场强度,大于所述第一区域作用于所述沟道区上的电场强度。本公开提供的薄膜晶体管,能够减少薄膜晶体管的漏电。
搜索关键词: 薄膜晶体管 阵列 显示 面板
【主权项】:
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