[发明专利]光刻机的污染控制系统、方法和光刻机有效
| 申请号： | 202111417648.5 | 申请日： | 2021-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN114280893B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 王魁波;吴晓斌;沙鹏飞;罗艳;谢婉露;李慧;韩晓泉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 郎志涛 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于光刻机技术领域，具体涉及一种光刻机及其污染控制系统和方法，光刻机的污染控制系统包括高纯清洁气源、纯化器、照明光学腔室气体装置、主腔室气体装置、投影光学腔室气体装置、硅片台腔室气体装置和真空泵组，各个气体装置分别包括各自的流量控制器和配气管道，各配气管道包括多个管道支路，用于对经由各自的流量控制器输送至相应腔室的清洁工艺气体进行分配。本发明的光刻机的污染控制系统能够调节输送至各个腔室的工艺气体流量，使得各个腔室形成合适的气压梯度，并通过真空泵组从相应腔室抽气，使光刻机内部形成工艺气流场，从而将污染物排出到光刻机外部。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 污染 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
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