[发明专利]一种器件微区工艺测量和校正方法有效
| 申请号： | 202111419008.8 | 申请日： | 2021-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN114111603B | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 张蜡宝;戴越;王昊;袁杭;费越;陈奇;李飞燕;李昊辰;谭静柔;李慧;康琳;吴培亨 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G03F7/20;G06T7/00;G06T7/90 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 210023 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种器件微区工艺测量和校正方法，首先，构建器件微区工艺测量系统；将待测样品放置在位移平台上，保证待测样品的水平度；其次，根据图像显示设备提供的信息，来判断待测样品上的目标区域的位置，用位移平台进行调节待测样品的位置；图像采集设备负责采集待测样品的目标区域内的RGB值，传递给图像处理装置；然后，图像处理装置利用加权算法将颜色通道数值转换成灰度值，降低变量的数量，提高处理速度；最后，用电子束曝光机制备纳米图案的制备并验证。本发明提高了可操作性和成品率；可以更加准确地分析同一个样品上不同位置的薄胶均匀性，从而解决了传统方式依赖贵重设备和操作不便性的问题，提高了整体微纳加工工艺的时效性和可控性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 器件 工艺 测量 校正 方法 | ||
【主权项】：
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