[发明专利]移动式物理溅射成膜设备及多层膜的制备工艺在审
| 申请号： | 202111433169.2 | 申请日： | 2021-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN114086141A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 石旭;吴祥一 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 王朝云 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种移动式物理溅射成膜设备及多层膜的制备工艺。所述移动式物理溅射成膜设备包括：第一真空腔，设置用以载入基材；第一沉积腔，设置用以使所述基材在所述第一沉积腔内进行溅射工艺；第二沉积腔，设置用以使所述基材在所述第二沉积腔内进行溅射工艺；间隔真空腔，设置于所述第一沉积腔与所述第二沉积腔之间，用以将所述基材通过所述间隔真空腔从所述第一沉积腔传输至所述第二沉积腔；其中，所述第一沉积腔的气压高于所述间隔真空腔的气压，所述第二沉积腔的气压高于所述间隔真空腔的气压；所述间隔真空腔用以阻断所述第一沉积腔与所述第二沉积腔之间的气流传播。 | ||
| 搜索关键词： | 移动式 物理 溅射 设备 多层 制备 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111433169.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种野外电力施工综合操作平台
- 下一篇：高熵合金旋转靶材及其冷喷涂的制备方法
- 同类专利
- 专利分类
