[发明专利]一种测量绝对反射率谱的装置及方法有效
| 申请号： | 202111434360.9 | 申请日： | 2021-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN114235746B | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 张治国;孙志洋;王永达 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 王芳 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种测量绝对反射率谱的装置及方法，属于材料绝对反射率谱测量技术领域。本发明利用漫反射立方积分腔测量材料绝对漫反射率谱，该立方腔包括腔体和活动可拆卸的顶盖板，腔体的侧壁开有入光孔和出光孔；光源发射的光经过双凸透镜汇聚后通过入光孔进入立方腔内，然后从出光孔射出被光纤探头接收并传输给光谱仪，经光谱仪分光后的光谱数据传输给计算机进行记录。并通过调节不同的顶盖开口大小，得到不同的出射光谱，经数据处理后得到漫反射立方腔的绝对漫反射率谱。本发明通过测量不同附加开孔比条件下的立方腔的出射光谱，准确计算出了腔内壁材料的绝对漫反射率谱，实现了材料绝对漫反射率谱的准确测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测量 绝对 反射率 装置 方法 | ||
【主权项】：
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