[发明专利]一种具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 202111454042.9 | 申请日： | 2021-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN114196928A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 罗来马;徐云凤;吴玉程;徐跃 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 合肥信诚兆佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34159 | 代理人： | 邓勇 |
| 地址： | 230009 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法，包括：将预处理后RAFM钢与纯钨靶材安装在磁控溅射腔室内，将腔室内抽真空至2×10 |
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| 搜索关键词： | 一种 具有 优异 等离子体 辐照 性能 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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