[发明专利]一种磷化铟的减薄抛光方法有效
| 申请号： | 202111455364.5 | 申请日： | 2021-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN114131434B | 公开（公告）日： | 2022-12-13 |
| 发明（设计）人： | 孙锦洋 | 申请（专利权）人： | 成都海威华芯科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B19/22;B24B37/00 |
| 代理公司： | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人： | 杜朗宇 |
| 地址： | 610299 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种磷化铟的减薄抛光方法，其包括如下步骤：(1)将磷化铟晶圆放在铺满研磨液的研磨机上进行研磨；研磨液以6～100ml/min的流量滴在旋转盘上，转速范围为20～90rpm/min；(2)将磷化铟晶圆放在铺满抛光液的抛光机上进行抛光，抛光液以6～100ml/min的流量滴在抛光垫上；(3)对完成化学机械抛光的磷化铟晶圆进行清洗。本发明方法大大提高了减薄效果、抛光效果，且能减少侵蚀抛光设备，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磷化 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都海威华芯科技有限公司，未经成都海威华芯科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111455364.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
