[发明专利]一种厚膜再电镀陶瓷基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111466541.X 申请日: 2021-12-03
公开(公告)号: CN114190003A 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 刘松坡;刘学昌;张树强;黄卫军 申请(专利权)人: 武汉利之达科技股份有限公司;湖北利之达电子科技有限公司
主分类号: H05K3/12 分类号: H05K3/12;H05K3/24;H05K1/02;H05K1/09;H05K3/00;H01L23/498;H01L21/48
代理公司: 湖北高韬律师事务所 42240 代理人: 鄢志波
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本发明公开了一种厚膜再电镀陶瓷基板及其制备方法,所述厚膜再电镀陶瓷基板结构包括陶瓷基片、厚膜导电层、电镀铜层和表面处理层。制备方法包括:首先在陶瓷基片表面印刷厚膜金属浆料,烧结后形成厚膜导电层;接着在非厚膜导电层区域再印刷导电胶和绝缘胶,分别作为电镀导电层和电镀掩模层;然后通过电镀工艺在厚膜导电层表面电镀沉积铜层,电镀完成后采用溶剂溶解掉电镀导电层和电镀掩模层;最后通过化学镀工艺在电镀铜层和厚膜导电层上沉积表面处理层,得到厚膜再电镀陶瓷基板。本专利通过厚膜印刷和再电镀技术制备陶瓷基板,制备工艺简单,省去了光刻显影等图形化工艺,同时采用低成本导电浆料代替昂贵的金基浆料,有效降低了制造成本。
搜索关键词: 一种 厚膜再 电镀 陶瓷 及其 制备 方法
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