[发明专利]一种超低应力耐久性金属反射膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202111476204.9 | 申请日： | 2021-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN114114490A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 徐旭;江传富;鲍晓静;熊涛;王航;何光宗;张天行 | 申请（专利权）人： | 湖北久之洋红外系统股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B1/14;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/12;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/22;C23C14/30 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 许美红;李艳景 |
| 地址： | 430223 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超低应力耐久性金属反射膜及其制备方法和应用。该金属反射膜，依次包括Cr膜层、Al或Ag反射层、介质保护层或增强层和防潮防霉憎水膜层，其中Cr膜层的厚度为10～50nm；当选择Ag膜层时，Cr膜层和Al膜层之间还包括Cu膜层。其制备为：基片进行基础清洗和离子束清洗，然后依次镀制Cr膜层、Al反射层(或Cu膜层和Ag反射层)、介质保护层或增强层、防潮防霉憎水膜，即得金属反射膜。该反射膜全膜系膜层应力低，膜层应力可调控，薄膜附着力、耐摩擦和环境稳定性优良，同时可根据光学元件的需求实现宽波段高反，且反射率高，可以广泛应用于对光学元件面形精度要求高、成像像质要求高的光学系统中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应力 耐久性 金属 反射 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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