[发明专利]一种用于高硅奥氏体不锈钢的金相腐蚀剂与显色蚀刻方法在审
| 申请号： | 202111491914.9 | 申请日： | 2021-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN114574864A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 梁田;陈思含;李潇欢;赵秀娟;马颖澈 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C23F1/28 | 分类号： | C23F1/28;C25F3/06;C23F17/00;G01N1/32;G01N1/30;G01N21/84 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 于晓波 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种用于高硅奥氏体不锈钢的金相腐蚀剂与显色蚀刻方法，属于高硅奥氏体不锈钢材料及金相分析技术领域。所述金相腐蚀剂包括腐蚀剂Ⅰ和腐蚀剂Ⅱ，腐蚀剂Ⅰ是由氢氟酸、丙三醇和硝酸按照(15～30)：(10～30)：10的体积比例混合而成；腐蚀剂Ⅱ是由硫酸和甲醇按照10：90的体积比例混合而成。使用时先将试样浸入腐蚀剂Ⅰ中浸泡2～6min，待表面变成磨砂状态，取出烘干；然后将样品在腐蚀剂Ⅱ中进行电解腐蚀，腐蚀电压为2～3V，电解时间为2～6min，腐蚀后的样品通过金相显微镜观察。该金相腐蚀剂及蚀刻方法可以清晰分辨高硅奥氏体不锈钢中析出相χ、σ、Cr |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 奥氏体 不锈钢 金相 腐蚀剂 显色 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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