[发明专利]一种抗漂移的双气敏膜气体传感器在审

专利信息
申请号: 202111494409.X 申请日: 2021-12-08
公开(公告)号: CN114384124A 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 熊友辉;张顺平;刘志强;何涛 申请(专利权)人: 四方光电股份有限公司
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12
代理公司: 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 代理人: 郝明琴
地址: 430205 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种抗漂移的双气敏膜气体传感器,属于气敏传感器技术领域,包括基底、加热电极及多个气敏单元,所述加热电极及多个所述气敏单元间隔设置在所述基底上,所述气敏单元包括构成至少两个插齿电极的至少三个测量电极和至少两个气敏膜,所述至少三个测量电极间隔设置在所述基底上,至少两个所述气敏膜分别由纯金属氧化物和与改性材料制作而成,至少两个所述气敏膜分别覆盖在所述至少两个插齿电极上。与现有技术相比,本发明提供的抗漂移的双气敏膜气体传感器,结构简单,适用性较好,提高了气体传感器的敏感性和稳定性。
搜索关键词: 一种 漂移 双气敏膜 气体 传感器
【主权项】:
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