[发明专利]一种ITO蚀刻液及其制备方法、应用方法在审
| 申请号： | 202111517991.7 | 申请日： | 2021-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN114507527A | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 王维;潘春林;李自杰;林秋玉 | 申请（专利权）人： | 福建中安高新材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 李珊珊 |
| 地址： | 350003 福建省福州市鼓楼区软*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种ITO蚀刻液及其制备方法、应用方法。所述ITO蚀刻液包括以下重量份数的各组分：2‑10份的草酸，0.01‑3份的表面活性剂，0.01‑3份的分散剂，以及水；其中，所述表面活性剂包括聚氧乙烯烷基二胺、聚氧乙烯烷基胺中的至少一种；所述分散剂包括二甘醇胺、聚乙二醇单辛基苯基醚中的至少一种。该ITO蚀刻液渗透性好、不易发泡、可控性强、蚀刻角度平滑、精度高，能在短时间内完成材料的蚀刻，蚀刻后材料的关键尺寸损失小于1.0μm，蚀刻角度小于70°，且蚀刻后基板上无光刻胶保护的区域几乎无ITO残留。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ito 蚀刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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